Anwendungen- CVD Chemische Gasphasenabscheidung

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CVD Chemische Gasphasenabscheidung

Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

Als Heizer bei der chemischen Gasphasenabscheidung werden Linn High Therm Rohröfen der Baureihe FRV und FRH eingesetzt. Größere Retortenöfen mit Muffeln aus speziellen Gusslegierungen erlauben die Abscheidung von Hartmetallschichten, pyrolytischem Kohlenstoff und Metallen bei Temperaturen bis 1100 °C unter Partialdruck. Zum Abscheiden von Schutzschichten für Solarzellen werden Schutzgas-/ Vakuumöfen der Baureihe KS-S/ Vac in Sondergrößen eingesetzt.

Für die Entwicklung von metallorganischen Verbindungen als Präkursor für Beschichtungen und zur Wafer Beschichtung werden Trockenschränke in Kombination mit Hochfrequenz-Generatoren der Baureihe HTG-1200 – HTG-10000 verwendet. Durch den Trockenschrank wird das Beschichtungsmaterial im Quarzreaktionsrohr verdampft und die Reaktorwände erwärmt um Kondensation zu verhindern. Mit dem Hochfrequenzgenerator wird das Substrat auf Beschichtungstemperatur beheizt.